| 專利技術摘要 |
一種濺鍍裝置，包含：一缸體，具有一第一充填口、一第二充填口及一容置空間，該第一充填口及第二充填口連通於該容置空間，該缸體之一側另設有一承載部；及一調控組件，具有一第一分隔體、一第二分隔體及一驅動件，該第一分隔體及第二分隔體設置於該容置空間，且將該容置空間區分為一高壓充填區、一鍍材區及一衝擊區，該高壓充填區與第一充填口連通，該鍍材區相鄰於該承載部且與該第二充填口連通，該衝擊區位於該第一分隔體與第二分隔體之間，該驅動件用以帶動該第一分隔體及第二分隔體，以控制該高壓充填區、鍍材區及衝擊區之連通。
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