| 專利技術摘要 |
一種氣體乾餾裝置，包含：一調節組件，具有一缸體、一第一塞體及一第二塞體，該缸體具有一第一容置空間及一第二容置空間，該第一塞體可移動的設置於該第一容置空間，以將第一容置空間區分為一第一儲氣區及一第二儲氣區，該第二塞體可移動的設置於該第二容置空間，以將該第二容置空間區分為一第三儲氣區及一第四儲氣區；一第一乾餾槽，與該缸體之第一儲氣區及第四儲氣區相連通，該第一乾餾槽與該缸體之間另設有一第一分子篩；及一第二乾餾槽，與該缸體之第二儲氣區及第三儲氣區相連通，該第二乾餾槽與該缸體之間另設有一第二分子篩。
|